Sharp e la Semiconductor Energy Laboratory hanno scoperto una nuova struttura cristallina IGZO (Ossido di Zinco, Indio e Gallio) chiamata CAAC, tecnologia che è stata applicata su alcuni prototipi con risultati davvero interessanti in termini di densità dei pixel. A dispetto dell'attuale tecnologia IGZO, questa soluzione consente di fare un'ulteriore salto di qualità ai TFT con display più compatti,  risoluzione più elevata e consumi ridotti.

Per mostrare a dovere il nuovo progetto sono stati sviluppati pannelli di diverse diagonali, dal 4.9" dedicato al segmento smartphone al 6.1" per altri dispositivi mobili. Il primo vanta una risoluzione di 720 x 1,280 pixel ed una densità di 302 ppi, mentre il secondo  arriva fino ad ad una sbalorditiva risoluzione di 2,560 x 1,600 pixel con densità di 498 ppi.

In un tradizionale cristallo gli assi A, B e C sono allineati, ma in questo materiale solo gli assi C lo sono. In termini cristallografici è molto insolito. Fino adesso i cristalli assomigliavano ai dadi, ma questa nuova struttura permette la cristallizzazione in film molto più sottili. Questa caratteristica li rende 10-20 volte superiori alle soluzioni di silicio morfo.

Come detto la tecnologia è applicabile anche sugli OLED, motivo per cui Sharp ha prodotto dei display prototipi da 13.5" con risoluzione 4K e una versione flessibile da 3.4", anche se l'azienda non è ancora entrata ufficialmente sul mercato OLED. Queste nuove soluzioni sono ancora in via di sviluppo, Sharp ha infatti cominciato solo da Aprile la commercializzazioni dei pannelli IGZO di prima generazione che forniscono comunque prestazioni ad alto livello con consumi energetici ridotti di 5-10 volte rispetto ai prodotti tradizionali. Ecco alcune delle caratteristiche tecniche:

• 32" con risoluzione di 3,480 x 2,160 pixel , 140 ppi
• 10" con risoluzione di 2,560 x 1,600 pixel, 300 ppi
• 7" con risoluzione di 800 x 1,200 pixel, 217 ppi

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